Allgemeine Informationen

• Untersuchungsgebiete

  Other
• Techniken

  Atomic Layer Deposition
  
• Hersteller

  Oxford Instruments
• Herstellungsjahr

  2021
• Hauptanwendung

  Material deposition

Spezifikationen des Geräts

• Technische Aspkete

  Atomic layer deposition (ALD) is a material growth method. The system is capable of growing oxides (Ga2O3, Al2O3, TiO2), sulfides (MoS2, WS2) and nitrides (AlN, TaN). It is equipped with a remote plasma sourse for oxygen- and nitrogen plasma, an ozone generator as well as a water vcapor source for oxygen.

• Weitere Untersuchungsmöglichkeiten

  The system is attached to an XPS/UPS system and an MBE-system via UHV transfer line.

Kontaktperson

• Anwendungswissenschaftler

  Tessarek, Christian
  Fachbereich 1
  NW1 M4090 Institut für Festkörperphysik
  Telefonnummer 0421 218 62223
  tessarekprotect me ?!uni-bremenprotect me ?!.de
• Führender Anwendungswissenschaftler

  Eickhoff, Martin
  

Gerätestandort

• Gruppe

  AG Festkörpermaterialien
• Gebäude

  NW1
• Fachbereich

  Fachbereich 1
• Institut Der Universität Bremen

  IFP