Allgemeine Informationen

• Untersuchungsgebiete

  Surface Analytics
• Techniken

  3D Laser Lithography
  
• Hersteller

  Nanoscribe
• Herstellungsjahr

  2010
• Hauptanwendung

  Fabrication of 3D polymer-based structures like waveguides, DOE's, or photonic crystals.

Spezifikationen des Geräts

• Technische Aspkete

  Lateral feature size: < 200 nm (lateral linewidth in IP-L 780)

  Lateral resolution: < 500 nm

  Axial resolution: 800 nm

  Piezo range: 300 µm x 300 µm x 300 µm

  Laser center wavelength: 780 nm

• Weitere Untersuchungsmöglichkeiten

  3D laser lithography, direct laser writing, two-photon polymerization, polymers, DOE, material manipulation, structure fabrication, surface modification, 3D design

Kontaktperson

• Anwendungswissenschaftler

  Claas Falldorf
  , BIAS
  OMOS: Coherent Optics and Nanophotonics FZB / HB 2540
  Telefonnummer 421 218 58013
  falldorfprotect me ?!biasprotect me ?!.de
• Führender Anwendungswissenschaftler

  Bergmann, Ralf
  

Gerätestandort

• Gruppe

  OMOS: Coherent Optics and Nanophotonics
• Gebäude

  LION
• Raum

  0.230
• Institut (Außeruniversitär)

  BIAS